Yamaguchi/Endo ITmag lab
Electromagnetic Theory Divistion
Dept. of EE/ECE, Tohoku University

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(工事中)
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磁性薄膜による 情報セキュリティ技術
 近年の情報化社会では,秘密情報は暗号技術により守られています. 暗号アルゴリズムの発展により,アルゴリズムの攻略などの数学的な攻撃は殆ど不可能となっている一方で,実装上の脆弱性を利用したサイドチャネル攻撃の危険性が指摘されています.
差分電磁波解析による情報漏洩の脅威



サイドチャネル攻撃に用いる物理情報のうち、近傍磁界に着目したものが差分電磁波解析,DEMAです.
平文と暗号鍵から暗号処理が行われる時,攻撃者はLSI近傍に生じる磁界を測定します.
次に,この暗号処理で使用されるであろう暗号鍵を推定し、LSI近傍の磁界を推定します.
そして,測定磁界と推定磁界との相関係数を算出します.
相関係数波形にピークが観測された場合,推定鍵と暗号鍵が一致し,秘密情報が漏えいする仕組みとなっています.

この近傍磁界を測定する手法として,山口研究室で行っている磁界プローブを用いた近傍磁界測定法があります.
 


相関係数の磁性薄膜による変化  
 
本研究では産業技術総合研究所と東北大学の青木・本間研究室が共同で開発した
サイドチャネル攻撃用標準評価基板(SASEBO-R)に搭載される暗号LSIを用いて,
情報漏洩の危険性が高い暗号アルゴリズムIP(Intellectual Property)近傍でDEMAを行い,
磁性薄膜による近傍磁界抑制効果および相関係数の低減について検証しています.





磁性薄膜を配置することで暗号IPコア近傍でも,相関が認められない範囲まで低減できました.
すなわち磁性薄膜が情報漏洩低減効果を発揮していることが分かります.
 








 

Last updated on November 22th, 2012.
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